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PF-300T Astra 是一款成熟量产型 PEALD （等离子增强原子层沉积）装备，可沉积高质量 SiO?（氧化硅）、 SiN（氮化硅）等介质薄膜，在高深宽比（10:1）结构下台阶笼罩率可达100%，薄膜匀称性、保形性与 CoO 体现抵达国际先进水准。产品可搭载3个两站式反应腔，普遍应用于先进芯片制造及先进封装领域，为客户提供成熟的 PEALD 量产计划。

产品特点
- 高深宽比（10:1）结构下台阶笼罩率100%
- 优异的薄膜匀称性
- 时序脉冲控制与等离子体耦合工艺
- 可搭载3个两站式反应腔

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