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产品先容
产品特点

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光刻工艺中，驻波效应和界面反射滋扰直接制约图形区分率， DARC 薄膜的厚度匀称性与光学稳固性，决议曝光效果与图形一致性。PF-300T Plus uX 是一款聚焦抗反射涂层（DARC）沉积需求的 PECVD 装备，通过对薄膜厚度、折射率及组分结构的精准调控，抑制驻波效应、降低界面反射，实现高匀称性、高稳固性的抗反射涂层沉积。该装备兼容性强，无需替换硬件即可实现多种薄膜的快速切换与宽规模参数调理，有用简化工艺流程、降低客户运营本钱。

产品特点
      - 薄膜匀称性可抵达< 0.5%，优异的薄膜稳固性和重复性
      - 高机械产能晶圆传输平台，产能＞200片/小时
      - 加热盘自动水平调解功效
      - 特殊电极设计，有用降低等离子体边沿效应
      - 可选配双区 ESC 加热盘，支持翘曲晶圆稳固沉积

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